| 发明名称 | 光反射体及使用该光反射体的面光源装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供光反射体及使用该光反射体的面光源装置。所述光反射体由层积膜构成，所述层积膜具有基材层和形成于基材层(A)单面的光扩散层(B)，所述光反射体的特征是，光反射面的表面粗糙度指数为1以上，反射率为95％以上，正反射率为3％以下。该光反射体具有高亮度和高反射率。 | ||
| 申请公布号 | CN1985192A | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
| 申请号 | CN200580017780.X | 申请日期 | 2005.05.31 |
| 申请人 | 优泊公司 | 发明人 | 上田隆彦;小山广 |
| 分类号 | G02B5/02(2006.01);F21S2/00(2006.01);F21V8/00(2006.01);G02B5/08(2006.01);G02F1/1335(2006.01);G02F1/13357(2006.01);F21Y103/00(2006.01) | 主分类号 | G02B5/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 丁香兰;赵冬梅 |
| 主权项 | 1.一种光反射体，所述光反射体由在基材层(A)的单面具有光扩散层(B)的层积膜构成，其特征在于，对于所述光反射体的光反射面，其以式(1)所示的表面粗糙度指数Z为1以上，波长550nm处的反射率R1为95％以上，以式(2)所示的波长550nm处的正反射率R2为3％以下，<img file="A2005800177800002C1.GIF" wi="1632" he="164" />正反射率R2＝反射率R1-扩散反射率R3 式(2)；式(2)中，R3为波长550nm处的扩散反射率。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||