发明名称 | 双镶嵌工艺 | ||
摘要 | 本发明提供了一种应用三层阻抗的部分接触孔优先(partial-via-first)的双镶嵌工艺。首先形成第一接触孔,该第一接触孔穿过介电层的部分厚度,然后在介电层上形成三层阻抗结构,其中三层阻抗的底层填满第一接触孔。进行干式显影工艺去除顶层,使顶层的开口转移至中间层及底层,同时移除第一接触孔的底层以露出第一接触孔。之后进行干式蚀刻工艺以在第一接触孔下形成第二接触孔,并在第二接触孔上形成沟槽。最后进行湿式剥除工艺去除残留的光刻胶层。 | ||
申请公布号 | CN1983552A | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
申请号 | CN200610103119.7 | 申请日期 | 2006.07.04 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 李再春;吴仓聚;欧阳晖 |
分类号 | H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/768(2006.01) |
代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 潘培坤 |
主权项 | 1.一种双镶嵌工艺,包括:在一半导体基板上形成一介电层;形成一第一接触孔,该第一接触孔穿过该介电层的部分厚度;在该介电层上形成三层阻抗结构,该三层阻抗结构包括覆盖该介电层并填满该第一接触孔的一底层、覆盖该底层的一中间层以及覆盖该中间层并具有一开口的一顶层;进行一干式显影工艺去除该顶层,并使该开口转移至该中间层及该底层,同时去除该第一接触孔的该底层以露出该第一接触孔;进行一干式蚀刻工艺去除该中间层及部分的该介电层,在该第一接触孔下形成一第二接触孔,并在该第二接触孔上形成一沟槽;以及进行一湿式剥除工艺去除该底层。 | ||
地址 | 中国台湾新竹市 |