| 发明名称 | 被处理件的处理方法及处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种被处理件的处理方法及其处理装置，在设置于减压环境的处理室内的载置台上载置了被处理件的状态下，在对前述被处理件实施设定的处理的处理方法中，在前述载置台上没有载置被处理件时，至少从处理室的载置台的传热气体供给孔喷出惰性气体，在前述载置台的载置面上形成气体层。 | ||
| 申请公布号 | CN1322556C | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
| 申请号 | CN02805065.7 | 申请日期 | 2002.02.15 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 西川浩 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种处理方法，在设置于减压环境的处理室内的载置台上载置被处理件的状态下，对所述被处理件实施设定的处理，其特征在于，在所述载置台上未载置被处理件时，向所述载置台上方喷出惰性气体，形成由被加温的热气体的所述惰性气体构成的气体层，以覆盖包含载置面的所述载置台，所述惰性气体从设置于载置台的多个传热气体供给孔喷出。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||