| 发明名称 | 曝光装置和曝光方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光装置，具有检测气压的气压计、驱动投影光学系统的透镜的透镜驱动单元、改变曝光光源的波长的光源波长驱动单元、和可以在光轴方向上驱动晶片台的晶片台驱动单元，可以通过透镜驱动单元、光源波长驱动单元和晶片台驱动单元校正由于气压变动产生的象差。这里，在该曝光装置的拍摄曝光中用透镜驱动单元和/或晶片台驱动单元校正象差，在非曝光时(拍摄之间)用光源波长驱动单元和/或透镜驱动单元和晶片台驱动单元校正象差。 | ||
| 申请公布号 | CN1322374C | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
| 申请号 | CN200410028478.1 | 申请日期 | 2004.03.12 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 冈田芳幸 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
| 主权项 | 1.一种曝光装置，其特征在于，包括：使光线从掩模引导到晶片的投影光学系统；测量上述装置中的气压的压力测量部件；驱动上述投影光学系统中的透镜的透镜驱动部件；改变光波长的光源驱动部件；以及根据上述压力测量部件所输出的信号，在上述曝光装置的曝光状态下指示上述透镜驱动部件驱动透镜，仅在上述曝光装置的非曝光状态下指示上述光源驱动部件改变波长的指示部件。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||