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A METHOD OF FORMING A TRENCH ISOLATION STRUCTURE ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND A SEMICONDUCTOR APPARATUS
摘要
申请公布号
KR100729945(B1)
申请公布日期
2007.06.20
申请号
KR20050074051
申请日期
2005.08.12
申请人
发明人
分类号
H01L21/306;H01L21/76
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
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