发明名称 光源装置及具备其的投影机
摘要 本发明提供一种良好射出激光的光源装置及投影单元。在投影单元的光源装置中,在激光光源(311)及VBG(313)之间配置非线性光学元件(312),VBG(313)具备:布拉格层(313A),将激发波长的激光以95%以上的反射率进行反射;和第一多层电介质膜(313B),透射变换波长的激光。因此,可以由VBG(313)的布拉格层(313A)将激光的激发波长窄频带化,使激光的激发效率及波长变换效率得到提高,能够从光源装置射出良好的激光。
申请公布号 CN1983018A 申请公布日期 2007.06.20
申请号 CN200610167028.X 申请日期 2006.12.13
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 小松朗;米窪政敏;永田光夫;武田高司
分类号 G03B21/14(2006.01);H01S5/00(2006.01);G02F1/35(2006.01) 主分类号 G03B21/14(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 陈海红;段承恩
主权项 1.一种光源装置,其特征为,具备:激光光源,其激发预定波长的激光;非线性光学元件,其与上述激光光源的光射出面对向进行配置,对从上述激光光源所射出的激光的激发波长进行变换,将该激光射出;体积型相位光栅,其与通过上述非线性光学元件变换后的变换波长的激光的射出面对向进行配置,在内部形成有将激发波长的激光有选择地反射的布拉格光栅结构;以及第一多层电介质膜,其设置于上述体积型相位光栅的光射出面,透射变换波长的激光,反射激发波长的激光。
地址 日本东京都