| 发明名称 | 用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种溅射腔室，该溅射腔室具有包括背板和溅射板的溅射靶材。背板具有凹槽。溅射板包含具有平面的柱状台面和围绕该柱状台面的环形倾斜边。在一个方案中，背板包含具有高热导率和低电阻率的材料。在另一方案中，背板包含具有单个凹槽或多个凹槽的背面。用于溅射腔室的工艺套件包含沉积环、覆盖环和护板组件，用于放置在溅射腔室中衬底支架附近。 | ||
| 申请公布号 | CN1982501A | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
| 申请号 | CN200610145254.8 | 申请日期 | 2006.11.24 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 艾伦·亚历山大·里奇;唐尼·扬;扬·理查德·洪;凯瑟琳·A·沙伊贝尔;乌梅什·凯尔卡 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01);C23C14/14(2006.01);C23C14/46(2006.01) | 主分类号 | C23C14/35(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐金国;梁挥 |
| 主权项 | 1.一种用于溅射腔室的溅射靶材，所述溅射靶材包括：(a)背板，包括至少大约200W/mK的热导率和从大约2到大约5μohm cm的电阻率；以及(b)安装在所述背板上的溅射板，所述溅射板包括：(i)具有平面的柱状台面；以及(ii)围绕所述柱状台面的环形倾斜边。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||