| 发明名称 | 光刻投射设备和用它制造器件的方法及制成的器件 | ||
| 摘要 | 在分子氧存在的情况下，通过用波长短于250nm的UV或EUV射线辐射内装光学元件的空间，可以就地清洗光刻投射设备中用的光学元件。用除了含有常用的洗涤气体组分外还含有少量分子氧的洗涤气体清洗所述空间。该方法也可以用在抽真空的空间中，给空间引入低压分子氧。该方法避免使用诸如臭氧的不稳定的材料。 | ||
| 申请公布号 | CN1322545C | 申请公布日期 | 2007.06.20 |
| 申请号 | CN02151872.6 | 申请日期 | 2002.11.15 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | W·范塞克;B·M·默藤斯;H·梅林;N·B·科斯特尔 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/00(2006.01);B08B11/00(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张志醒 |
| 主权项 | 1.一种器件制造方法，包括以下步骤：提供衬底，所述衬底至少部分涂覆射线敏感材料层；提供波长等于或低于250nm的电磁射线的投射射束；用构图装置对所述投射射束的横截面形成图形；将已构图的射线射束投射至所述射线敏感层的目标部分上，其特征在于：在与上述投射步骤同时，向包括一个定位成与所述投射射束相互作用的光学元件的空间提供包含总分压为0.03Pa至1Pa的分子氧的洗涤气体，来清洁所述光学元件。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||