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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR DRYING SEMICONDUCTOR WAFER SURFACES USING A PLURALITY OF INLETS AND OUTLETS HELD IN CLOSE PROXIMITY TO THE WAFER SURFACES
摘要
申请公布号 EP1500128(B1) 申请公布日期 2007.06.20
申请号 EP20030798815 申请日期 2003.09.30
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 DE LARIOS, JOHN, M.;GARCIA, JAMES, P.;WOODS, CARL;RAVKIN, MIKE;REDEKER, FRITZ;BOYD, JOHN;NICKHOU, AFSHIN
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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