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发明名称
介电体层及介电体层形成基板之制造方法
摘要
本发明之目的在于提供一种介电体层,其系于玻璃基板上之电极侧面不产生大气泡,不易引起尺寸变化,且表面平滑性高。此外,本发明之目的在于提供:介电体层形成基板之制造方法、介电体形成片、介电体层形成基板及电浆显示面板。本发明系有关一种介电体层,其系于含有转移点为400~430℃且软化点为460~500℃之熔融玻璃成分之烧结体之第一介电体层上,层叠含有转移点为450~530℃且软化点为550~620℃之烧结玻璃成分之烧结体之第二介电体层之2层构造。
申请公布号
TW200723350
申请公布日期
2007.06.16
申请号
TW095104139
申请日期
2006.02.08
申请人
日东电工股份有限公司
发明人
马场纪秀;久米克也;甲斐诚;武藏岛康;田中逸大;铃木秀典;小西俊春
分类号
H01J9/02(2006.01)
主分类号
H01J9/02(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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