直立式溅镀装置

摘要

一种直立式真空溅镀装置，其主要系将放置座倾斜一角度，使工件之被溅镀面向下倾斜一角度之方式进行溅镀制程，可有效降低异常金属颗粒对于工件被镀面的影响，降低不良率，对于半导体制程是一相当重要的改进。