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发明名称
浸润式微影系统与其密封环的排列结构及使用方法
摘要
本发明系揭示浸润式(Immersion)微影系统之各种密封环的排列结构。藉由此些密封环的排列结构,浸润式微影系统可提供较佳之密封效果,以处理位于晶圆吸附器(Wafer Chuck)上之晶圆。
申请公布号
TW200723435
申请公布日期
2007.06.16
申请号
TW095144253
申请日期
2006.11.29
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
林本坚;高蔡胜;陈俊光;刘如淦;游信胜;施仁杰
分类号
H01L21/68(2006.01)
主分类号
H01L21/68(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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