| 摘要 |
本发明揭示一种化学研磨装置及其玻璃基板。本发明之化学研磨装置具备：以封闭状态保有含氢氟酸之研磨液的化学研磨槽；以预定间隔朝上设有直径0.3mm~2mm程度之气泡开口HO的复数列中空管2；将空气连续地供应至复数列中空管2，使化学研磨槽产生气泡的供气泵；以及在复数列中空管2的上部，相隔预定的扩散空间并以垂直姿势保持复数个玻璃基板的容器架。在反覆复数次以容器架为单位而执行的化学研磨处理之后，将沉淀在沉淀空间的反应生成物从排出口排出。根据本发明，可提供一种不易引起堵塞，而且供应至玻璃基板的气泡不会有位置上的不均，并实现高品质之化学研磨的化学研磨装置。 |
