用于去除表面层而无基质损失之中等压力电浆系统

摘要

提供一种用以自半导体晶圆移除光阻或其它有机化合物之系统及方法。非氟化反应气体(氧气、氢气、水、氮气等等)藉由一中等压力表面波放电方式而于一石英管中被活化。在该电浆喷流撞在一基质上时，挥发性反应产物(水、二氧化碳或低分子量碳氢化合物)选择性地自该表面移除该光阻。该中等压力也使高气体温度可提供该晶圆上之反应区一有效热源以增强蚀刻率，并提供一移除离子植入的光阻的实用方式。