发明名称 半导体特性曲线的比较方法
摘要 一种分析系统,其系包含:一用于储存多个半导体装置测量结果与一曲线图显示程式的储存装置;一用于以曲线图显示该等测量结果于数个视窗内的显示器;用于选定该等视窗中之一些的输入装置;以及,一用于重叠及显示该等曲线图于该等视窗内的处理器,藉由使用该曲线图显示程式,藉此使得:只有在该输入装置所选定视窗中之一视窗内的曲线图之一显示区变成透明,该一视窗系位于该显示器所显示的最上层;除了该曲线图之该显示区以外的区域变成不透明;位于显示于最下层之视窗中之曲线图的至少一显示区变成不透明;以及,位于最上层与最下层之间中之一层的视窗中之曲线图的至少一显示区变成透明。
申请公布号 TW200723426 申请公布日期 2007.06.16
申请号 TW095109640 申请日期 2006.03.21
申请人 安捷伦科技公司 发明人 石塚好司
分类号 H01L21/66(2006.01);H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/66(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国