雷射光源装置及方法、曝光方法及装置

摘要

本发明在雷射光源装置侧有效活用曝光装置本体侧之资讯。本发明之雷射光源装置16，系用以将雷射光LB供应至使晶圆曝光之曝光装置本体部20，其具备控制部12，系根据曝光装置本体部20所传送之曝光动作之曝光资讯EI来调整雷射光源装置16之运转条件。该曝光资讯EI之一例，系开始发光前之待机时间或持续发光之时间之资讯；该运转条件之一例，系使雷射光发光之放电腔室1内之气体压力、放电腔室1内之温度、及放电腔室1内之鼓风机4之旋转数。