曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法、投影光学系统

摘要

曝光装置EX，具备：光学单元U，系于第1方向之相异位置规定第1曝光区域AR1与第2曝光区域AR2，且分别对第1曝光区域及第2曝光区域照射曝光用光EL；以及第1移动系统4，系使第1曝光区域及该第2曝光区域与基板相对移动于该第1方向。一边使第1曝光区域及第2曝光区域与基板P上之既定区域相对移动、一边以光学单元U分别对第1曝光区域及第2曝光区域照射曝光用光EL，藉此以照射于第1曝光区域之曝光用光所形成的第1图案像、以及照射于第2曝光区域之曝光用光所形成的第2图案像来使基板P上之既定区域多重曝光。藉此能抑制产能降低，以良好效率对基板进行多重曝光。