| 摘要 |
本发明提供一种适用于化学机械研磨之表面具有纹理之研磨垫，其包括一平均孔单元尺寸介于60微米或以下之多孔聚合物发泡体。该发泡体中至少75％的孔具有的孔单元尺寸系在平均孔单元尺寸之30微米以内。该垫具有至少一个纹理化表面，其包括深度介于25微米至1150微米之间、宽度介于0.25微米至380微米之间且长宽纵横比为1至1000之凹痕。此外，该垫之该至少一个纹理化表面包括至少10个凹痕/平方公分表面积，且具有至少5微米之平均表面粗糙度。较佳地，至少一个纹理化表面具有至少一个压印于其上之相间隔平行凹槽之图案。 |
