感光性组成物、图案形成材料、感光性积层体、以及图案形成装置与图案形成方法 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION、PATTERN FORMING MATERIAL、

摘要

本发明系提供一种对于400~410奈米波长之曝光光的感度分布为约略一定、不受雷射曝光时之曝光波长变异的影响、且图案再现性优异，并可以极端地抑制图案形状之变异、且能够于明室环境下处理之感光性组成物。因此，提供一种感光性组成物，其特征在于：由至少包括黏合剂、聚合性化合物、光聚合起始剂及增感剂所构成，且该增感剂系包括至少2种的最大吸收波长为340~500奈米之增感剂。