发明名称 | CMOS影像感测元件的制作方法 | ||
摘要 | 一种具有栓固式光二极体CMOS影像感测元件的制作方法,包含提供第一导电型半导体基材,其具有一掺杂井;于掺杂井上形成闸极;进行自我对准离子布植制程,于半导体基材之光感应区内形成第二导电型二极体掺杂区;进行斜角度离子布植制程,于半导体基材内形成第二导电型口袋掺杂区;于闸极侧壁上形成侧壁子;在二极体掺杂区内形成第一导电型表面栓固掺杂层,表面栓固掺杂层、二极体掺杂区、口袋掺杂区与半导体基材构成一栓固光二极体组态。 | ||
申请公布号 | TW200723516 | 申请公布日期 | 2007.06.16 |
申请号 | TW095126810 | 申请日期 | 2006.07.21 |
申请人 | 原相科技股份有限公司 | 发明人 | 陈经纬;谢志成;黄建章 |
分类号 | H01L27/146(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L27/146(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹县新竹科学工业园区创新一路5号5楼 |