光阻组成物之制造方法、过滤装置、涂布装置及光阻组成物

摘要

本发明系提供显像后能抑制光阻图型产生瑕疵之光阻组成物的制造技术。又，为了提供具有优良异物经时特性(保存安定性)之光阻组成物的制造技术，更佳为提供处理前后不易产生灵敏度及光阻图型尺寸变化之光阻组成物的制造技术，本发明之光阻组成物的制造方法为，特征系具有使含有树脂成分(A)，利用曝光产酸之酸发生剂成分(B)及有机溶剂(C)之光阻组成物，通过具备pH7.0之蒸馏水中具有超过-20mV且15mV以下δ(Zeta)电位的第1种膜之第1滤器2a的步骤。