用于半导体装置之硬罩幕的聚合物及含其之组成物

摘要

本发明所揭露的是一种用于硬罩幕的聚合物及含有该聚合物之组成物，彼等适用于制造下一代的半导体装置。当使用具有强的抗热性的聚醯胺酸形成半导体装置之底层图案时，则是藉由旋转涂覆方法来形成聚醯胺酸膜，并使用它作为硬罩幕，藉此有助于图案的蚀刻。