用于浸渍曝光之正型光阻组成物及使用它之图案形成方法

摘要

一种用于浸渍曝光之正形光阻组成物包括：(A)一种可因酸之作用增加其在硷显影剂中溶解度之树脂，及(B)一种在以光化射线或放射线照射时可产生酸之化合物，其中取酸之凡德瓦体积为V(3)，及酸之凡德瓦表面积为S(2)，则酸满足V≧230及V/S≦0.93之条件。