使用掩罩形成平面二极体之方法

摘要

一种平面二极体及仅利用一掩罩制作平面二极体的方法。此二极体系藉由以氧化物涂覆基底而形成，去除氧化物的部份以定义出一窗，掺杂剂经由此窗扩散。基底镀有镍/金以提供欧姆式接触表面，且窗之周围上的氧化物被涂覆以一聚亚醯胺钝化剂，覆盖P/N接面。