发明名称 SISTEMAS AUTOMATIZADOS DE DISPENSACION DE GAS HIPERPOLARIZADO SENSIBLE A UNA PRESION DINAMICA, Y PROCEDIMIENTOS Y PRODUCTOS DE PROGRAMA INFOMATIVO ASOCIADOS.
摘要 Sistema de producción de gas hiperpolarizado, que comprende: una fuente de gas hiperpolarizado (15) que comprende una célula de bombeo óptico configurada para hiperpolarizar un gas por medio de un intercambio de espín con un metal alcalino bombeado ópticamente, teniendo la célula de bombeo óptico un volumen conocido, en el que, en funcionamiento, la célula de bombeo óptico tiene una presión asociada por encima de aproximadamente 1 atm; una vía de flujo de gas cerrada (10p) que se extiende entre la fuente de gas hiperpolarizado (15) y un orificio de salida de dispensación, teniendo la vía de flujo de gas (10p) al menos una primera (V1), una segunda (V2), y una tercera (V3) válvulas separadas operables de manera individual situadas en comunicación de fluido con aquella y situadas a lo largo de la vía de flujo de gas (10p), estando la primera válvula (V1) situada corriente arriba de la segunda válvula (V2) y más cerca de la fuente de gas hiperpolarizado (15), en el que la vía de flujo de gas (10p) situada en posición intermedia respecto de la primera, segunda y tercera válvulas separadas, define un primer espacio de retención calibrado (20f) con un volumen asociado que puede cerrarse de manera selectiva respecto del resto de la vía de flujo de gas (10p), estando el orificio de dispensación situado en posición opuesta a la segunda válvula (V2) con relación al primer espacio calibrado (20f); en el que la cuarta (V4) y quinta (V5) válvulas están operativamente asociadas con la vía de flujo de gas (10p) y situadas a lo largo de la vía de flujo de gas opuestas a la tercera válvula (V3) respecto del espacio calibrado (20f), en el que la porción de la vía de flujo de gas situada en posición intermedia respecto de la primera (V1), la segunda (V2), la cuarta (V4) y la quinta (V5) válvulas, define un segundo espacio calibrado (20c); una fuente (30) de gas amortiguador noble, inerte, no polarizado, bajo presión, de calidad médica, situada opuesta a la quinta válvula (V5) con relación al segundo espacio calibrado (20c); un sensor de presión (PG1) asociado operativamente con la vía de flujo de gas (10p); y un módulo de control (12) asociado operativamente con las válvulas (V1, V2, V3, V4, V5) y estando configurados el sensor de presión (PG1) y el módulo de control (12) para dirigir automáticamente la secuencia operativa de la apertura y cierre de las válvulas para capturar una cantidad discreta de, o bien el gas hiperpolarizado o bien del gas amortiguador dentro de un espacio existente entre el primer (20f) y segundo (20c) espacios calibrados para liberar la cantidad discreta del gas hiperpolarizado o del gas amortiguador en su interior a través del orificio de dispensación.
申请公布号 ES2276117(T3) 申请公布日期 2007.06.16
申请号 ES20030765908T 申请日期 2003.07.22
申请人 MEDI-PHYSICS, INC. 发明人 TEIXEIRA, BRIAN
分类号 B67D99/00;F17C9/04;A61K49/06;A61K49/18;A61K51/12;F17C5/06;F17C7/00;F17C9/00;F17C13/02 主分类号 B67D99/00
代理机构 代理人
主权项
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