| 发明名称 | 化学机械研磨用水性分散体及其化学机械研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明中所涉及的化学机械研磨用水性分散体含有：研磨粉粒成分(A)、喹啉羧酸及吡啶羧酸中至少一种所组成的成分(B)、喹啉羧酸及吡啶羧酸以外的有机酸组成的成分(C)、氧化剂成分(D)，且其中成分(B)的含量(WB)与成分(C)的含量(WC)的质量比(WB/WC)在0.01到2之间，氨及铵离子组成的氨成分浓度在0.005摩尔/升以下。这种化学机械研磨用水性分散体，可高效研磨各种被加工层各处，获得非常平坦且高精度的最终面。 | ||
| 申请公布号 | CN1321441C | 申请公布日期 | 2007.06.13 |
| 申请号 | CN200410069162.7 | 申请日期 | 2004.07.05 |
| 申请人 | 捷时雅株式会社;株式会社东芝 | 发明人 | 内仓和一;西元和男;服部雅幸;川桥信夫;矢野博之;松井之辉;南幅学;福岛大;仓嶋延行 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);C09K3/14(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 南霆 |
| 主权项 | 1、一种化学机械研磨用水性分散体，含有研磨粉粒成分A、喹啉羧酸及吡啶羧酸中至少一种所组成的成分B、喹啉羧酸及吡啶羧酸以外的有机酸组成的成分C、氧化剂成分D，其特征在于，成分B的含量WB与成分C的含量WC的质量比WB/WC在0.01到2之间，氨及铵离子组成的氨成分浓度在0.005摩尔/升以下。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||