| 发明名称 |
Positive type photosensitive resin composition, process for producing pattern and electronic parts |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1089129(B1) |
申请公布日期 |
2007.06.13 |
| 申请号 |
EP20000120169 |
申请日期 |
2000.09.22 |
| 申请人 |
HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD. |
发明人 |
MINEGISHI, TOMONORI;KAJI, MAKOTO |
| 分类号 |
G03F7/004;C08G73/06;C08K5/00;C08L79/04;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;H01L21/027;H01L21/312;H05K3/00;H05K3/46 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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