| 发明名称 | 溅射靶及通过旋转轴向锻造形成该溅射靶的方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种使用旋转轴向锻造制造溅射靶的方法。其它热机械工序可以在锻造步骤之前和/或之后使用。进一步描述了一种可以具有独特粒径和/或晶体结构的溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN1981067A | 申请公布日期 | 2007.06.13 |
| 申请号 | CN200580022954.1 | 申请日期 | 2005.05.06 |
| 申请人 | 卡伯特公司 | 发明人 | 约翰·P·梅特雷;罗伯特·B·福特;小查尔斯·E·威克沙姆 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C22C27/02(2006.01);C22F1/08(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种形成溅射靶的方法，包括对铸锭得到的预成型件旋转轴向锻造至所述溅射靶的形状和尺寸。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||