发明名称 | 半导体制造用气体喷射器基座 | ||
摘要 | 1.本外观设计产品是在半导体基板上进行成膜处理时所使用的气体喷射器的基座;2.右视图与左视图对称,省略右视图。 | ||
申请公布号 | CN3657444D | 申请公布日期 | 2007.06.13 |
申请号 | CN200630131107.6 | 申请日期 | 2006.06.27 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 齐藤哲也;五味久;掛川崇 |
分类号 | 15-99 | 主分类号 | 15-99 |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
主权项 | |||
地址 | 日本东京 |