透明薄膜的形成方法,根据该方法形成的透明薄膜及具有透明薄膜的透明基体

摘要

本发明提供一种使用原料气体根据化学气相沉积法形成透明薄膜的方法，其特征在于：成膜速度为8nm/s以上，该透明薄膜含有选自碳(C)和氧(O)中的至少一种、氮(N)、氢(H)及硅(Si)。根据该方法，可在浮槽内的玻璃带上形成薄膜中的张力被缓和而不易从基体剥离，并且在可见光区的透过率高的透明薄膜。

主权项

1.一种透明薄膜的形成方法，是使用原料气体根据化学气相沉积法形成透明薄膜的方法，其特征在于：所述原料气体含有氢化硅及氨气，在所述原料气体中所述氢化硅的浓度为0.2mol％以上2.4mol％以下，所述氨气相对于所述氢化硅的摩尔比为40～400，成膜速度为8nm/s以上且15nm/s以下，该透明薄膜以氮化硅为基本骨架，并含有选自碳和氧中的至少一种1～10原子％、氮30～60原子％、氢4～20原子％及硅35～45原子％。