| 发明名称 | 液滴喷射装置 | ||
| 摘要 | 在一个方案中，本发明以用于在组件和基材沿加工方向相对移动期间向基材上沉积液滴的组件为特征。该组件包括：第一打印头模块和与第一打印头模块接触的第二打印头模块，各个打印头模块包括具有喷嘴阵列的表面，所述打印头模块能通过该喷嘴阵列喷射液滴，其中第一打印头模块喷嘴阵列中的各喷嘴相对于第二打印头模块喷嘴阵列中的相应喷嘴沿垂直于加工方向的方向偏离。 | ||
| 申请公布号 | CN1980795A | 申请公布日期 | 2007.06.13 |
| 申请号 | CN200580017004.X | 申请日期 | 2005.04.29 |
| 申请人 | 富士胶片戴麦提克斯公司 | 发明人 | 安德烈亚斯·比布尔;保罗·A.·霍伊辛顿;史蒂文·H.·巴尔斯;约翰·A.·希金森;大卫·A.·斯韦特;丹尼尔·科特;爱德华·R.·莫伊尼汉;罗伯特·韦尔斯 |
| 分类号 | B41J2/155(2006.01);B41J2/145(2006.01);B41J2/245(2006.01) | 主分类号 | B41J2/155(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王玉双 |
| 主权项 | 1、一种用于在组件和基材沿加工方向相对移动的期间向基材上沉积液滴的组件，所述组件包括：第一打印头模块以及与所述第一打印头模块接触的第二打印头模块，各所述打印头模块均包括具有喷嘴阵列的表面，所述打印头模块能通过所述喷嘴阵列喷射液滴，其中所述第一打印头模块的喷嘴阵列中的各喷嘴相对于所述第二打印头模块的喷嘴阵列中的相应喷嘴在垂直于所述加工方向的方向上偏离。 | ||
| 地址 | 美国新罕布什尔州 | ||