| 发明名称 | 粒子射线照射方法及使用该方法的粒子射线照射装置 | ||
| 摘要 | 在进行深度方向的照射区域扩大和横向的照射区域扩大的粒子射线照射方法及粒子射线照射装置中，力求使照射目标的各照射层的每一层照射剂量实质上为一定，以简化控制。单元深度方向的照射区域扩大为将沿所述粒子射线束的照射方向的射程互不相同的多层照射层进行叠合的主动的照射区域扩大，另外，横向的照射区域扩大为将所述粒子射线束的照射点沿横向进行叠合的主动的照射区域扩大，此外，配置具有沿照射目标深度方向最深部位的形状的物块，使其横着切割粒子射线束。 | ||
| 申请公布号 | CN1980709A | 申请公布日期 | 2007.06.13 |
| 申请号 | CN200580022510.8 | 申请日期 | 2005.02.04 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 原田久 |
| 分类号 | A61N5/10(2006.01);G21K5/00(2006.01);G21K3/00(2006.01);G21K5/04(2006.01) | 主分类号 | A61N5/10(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沈昭坤 |
| 主权项 | 1.一种粒子射线照射方法，同时利用在沿粒子射线束照射方向的照射方向的深度方向、在该方向上扩大所述粒子射线束的照射区域的深度方向的照射区域扩大、以及沿与所述粒子射线束的照射方向正交的横向扩大所述粒子射线束的照射区域的横向的照射区域扩大，对照射目标照射所述粒子射线束，其特征在于，所述扩大深度方向的照射区域扩大为将沿所述粒子射线束的照射方向的射程互不相同的多层照射层进行叠合的主动的照射区域扩大，另外，所述横向的照射区域扩大为将所述粒子射线束的照射点沿所述横向进行叠合的主动的照射区域扩大，此外，配置具有沿所述照射目标深度方向的最深部位的形状的物块，使其横着切割所述粒子射线束。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||