发明名称 闭管化学气相传输法生长ZnO单晶方法
摘要 本发明涉及微电子和光电子用化合物半导体材料制备技术领域,特别是一种闭管化学气相传输法生长ZnO单晶方法。在封闭的石英管内,一端放置高纯ZnO粉作为源,另一端放置籽晶,通过控制源区与生长区的温度分布实现气相传输,生长ZnO体单晶,在生长过程中放入少量的高纯碳。选用一端为平面封口的圆形石英管作外管,再选用一根外径与籽晶片直径相同的石英管称为内管,用来顶住籽晶片,使其固定在石英管的平面端,ZnO粉放置在内管的另一端,同时放入少量的高纯碳粉,然后外管接真空系统,抽真空后用石英封泡封闭,将封好口的石英管放入水平加热炉内升温加热,控制温度分布进行ZnO单晶生 长。
申请公布号 CN1978713A 申请公布日期 2007.06.13
申请号 CN200510126238.X 申请日期 2005.11.30
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 赵有文;董志远;段满龙;魏学成
分类号 C30B25/00(2006.01);C30B29/16(2006.01) 主分类号 C30B25/00(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 段成云
主权项 1.一种闭管化学气相传输法生长ZnO单晶方法,在封闭的石英管内,一端放置高纯ZnO粉作为源,另一端放置籽晶,通过控制源区与生长区的温度分布实现气相传输,生长ZnO体单晶,在生长过程中放入少量的高纯碳。
地址 100083北京市海淀区清华东路甲35号
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