发明名称 |
防静电保护器件 |
摘要 |
本发明公开了一种防静电保护器件,包括多个并联的NMOS管,在P衬底上设置有并排的P阱和N阱,所述NMOS管设置于并排的P阱和N阱上,该NMOS管的源极和栅极位于P阱上方,该NMOS管的漏极包括N阱和两个N型扩散区,所述两N型扩散区上方分别各有一个金属硅化物层;所述两N型扩散区中间有一间隔,其中一个N型扩散区位于P阱和N阱交界处的上方,另一个N型扩散区位于N阱上方,所述位于N阱上方的N型扩散区的金属硅化物与一个包含有导电物质的通孔相连接。本发明通过将设置于N阱上的N型扩散区断开,不仅能使各NMOS管均匀开启,还大大的提高了器件的散热效率和耐压强度。 |
申请公布号 |
CN1979858A |
申请公布日期 |
2007.06.13 |
申请号 |
CN200510111039.1 |
申请日期 |
2005.12.01 |
申请人 |
上海华虹NEC电子有限公司 |
发明人 |
徐向明;金锋;苏庆 |
分类号 |
H01L27/04(2006.01);H01L23/60(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/04(2006.01) |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 |
代理人 |
丁纪铁 |
主权项 |
1.一种防静电保护器件,其特征在于,包括多个并联的NMOS管,各NMOS管中,在P衬底上设置有并排的P阱和N阱,所述NMOS管设置于并排的P阱和N阱上,该NMOS管的源极和栅极位于P阱上方,该NMOS管的漏极包括N阱和两个N型扩散区,所述两N型扩散区上方分别各有一个金属硅化物层;所述两N型扩散区中间有一间隔,其中一个N型扩散区位于P阱和N阱交界处的上方,另一个N型扩散区位于N阱上方,所述位于N阱上方的N型扩散区的金属硅化物与一个包含有导电物质的通孔相连接。 |
地址 |
201206上海市浦东新区川桥路1188号 |