| 发明名称 | 薄膜层叠体和电子元件 | ||
| 摘要 | 一种形成薄膜的方法，在该方法中，在真空中在支撑体上形成金属等的薄膜时，在薄膜的形成之前，从喷嘴孔作为蒸汽流在薄膜上施加形成图形用的构图材料并在支撑体上附着了该液化物之后形成薄膜，这样来施加构图材料，使得从多个喷嘴孔施加的构图材料在支撑体上进行一体化。可形成即使图形宽度变宽、在图形端部处的模糊程度也小的图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1975944A | 申请公布日期 | 2007.06.06 |
| 申请号 | CN200610143245.5 | 申请日期 | 1998.03.12 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 本田和义;越后纪康;小田桐优;砂流伸树 |
| 分类号 | H01G4/30(2006.01);H01G4/015(2006.01);H01C7/18(2006.01);H01F5/00(2006.01);H01M10/00(2006.01);H01L27/00(2006.01);B32B15/00(2006.01);B32B15/08(2006.01) | 主分类号 | H01G4/30(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 浦柏明;刘宗杰 |
| 主权项 | 1.一种薄膜层叠体，该薄膜层叠体是层叠形成了图形的薄膜层和上述薄膜层以外的薄膜层而构成的，其特征在于：在上述图形的宽度方向上，具有图形中央部的透过光量的50％的透过光量的地点间的距离D0在300μm以上，而且在上述图形的端部，透过光量为图形中央部的透过光量的20％的地点与80％的地点之间的图形宽度方向的距离D1是上述D0的1/5以下。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||