| 发明名称 | 用于真空处理装置的静电吸盘、具有该静电吸盘的真空处理装置、及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种用于真空处理装置的静电吸盘，其包括：一个具有突起的主基板；一个形成于该主基板上的绝缘层；一个用于通过施加电能产生静电力的形成于该绝缘层上的静电层；以及一个形成于该静电层上的介电层。这些突起可以具有各种形状，并且制造方法被简化和稳定化。此外，该静电吸盘有利于适应于大型基板。 | ||
| 申请公布号 | CN1975998A | 申请公布日期 | 2007.06.06 |
| 申请号 | CN200610002077.8 | 申请日期 | 2006.01.24 |
| 申请人 | IPS有限公司 | 发明人 | 车勋;严用铎 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中安信知识产权代理事务所 | 代理人 | 张小娟;徐林 |
| 主权项 | 1.一种用于真空处理装置的静电吸盘，其包括：一个具有突起的主基板；一个形成于该主基板上的绝缘层；一个用于通过施加电能产生静电力的形成于该绝缘层上的静电层；以及一个形成于该静电层上的介电层。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||