| 发明名称 | 氧化镁－氧化锆砖的应用 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种氧化镁-氧化锆砖在玻璃熔融槽再生室中的应用，该熔融槽至少是部分地在还原气氛下操作。 | ||
| 申请公布号 | CN1319905C | 申请公布日期 | 2007.06.06 |
| 申请号 | CN03808505.4 | 申请日期 | 2003.03.06 |
| 申请人 | 里弗雷克特里知识产权两合公司 | 发明人 | T·维歇尔特;B·施马伦巴赫;M·盖斯;C·马伊切诺维克 |
| 分类号 | C04B35/03(2006.01);C03B5/237(2006.01) | 主分类号 | C04B35/03(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 卢新华;庞立志 |
| 主权项 | 权利要求书1.一种氧化镁-氧化锆砖在玻璃熔融炉再生室中的应用，该熔融炉至少是部分地在还原气氛下操作，上述氧化镁-氧化锆砖中，包括5-35重量％ZrO2、65-95重量％MgO和最多5重量％的其它组份，其中SiO2的含量＜1.0重量％。 | ||
| 地址 | 奥地利维也纳 | ||