发明名称 |
制作盘形记录介质的旋涂装置和方法 |
摘要 |
本发明涉及制作盘形记录介质的旋涂装置和方法。所述旋涂装置可防止对一盘进行旋涂时采用的一掩膜受到损坏。更具体地说,所述装置结构如下。首先,将一掩膜放置到一位于一旋涂器上的盘件上,然后进行旋涂。紧接之后,连续地对移离该盘件的单个掩膜进行清洗、冲洗及干燥处理,这些处理之后的掩膜相继发送给下一旋涂操作。 |
申请公布号 |
CN1320543C |
申请公布日期 |
2007.06.06 |
申请号 |
CN03816314.4 |
申请日期 |
2003.07.09 |
申请人 |
TDK株式会社 |
发明人 |
山口晴彦;淀川吉见;宇佐美守;丑田智树;出泽圣一 |
分类号 |
G11B7/26(2006.01);B05C11/08(2006.01);B05D1/40(2006.01) |
主分类号 |
G11B7/26(2006.01) |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
吴鹏;马江立 |
主权项 |
权利要求书1.一种旋涂装置,该旋涂装置用于制作盘形记录介质,以通过在盘件的中央部附近供应涂敷材料并利用通过转动所述盘件产生的离心力在所述盘件上散布所述涂敷材料而在所述盘件上形成所述涂敷材料的膜,所述涂敷装置包括:掩膜供给/移除机构,当所述盘件转动时,所述掩膜供给/移除机构在所述盘件上供应一掩膜以覆盖所述盘件的中央部附近,并且在所述盘件已经完成转动后,所述掩膜供给/移除机构将附着有涂敷材料的掩膜移离所述盘件;以及清洗机构,该清洗机构具有输送臂,该输送臂保持由所述掩膜供给/移除机构移离的所述掩膜并将由所述掩膜供给/移除机构移离的所述掩膜逐一插入带有用于清洗由所述掩膜供给/移除机构移离的所述掩膜的清洗剂的清洗部,以逐一清洗附着有涂敷材料的所述掩膜。 |
地址 |
日本东京都 |