| 发明名称 | 辐射系统和光刻设备 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于产生辐射束的辐射系统。该辐射系统包括用于产生EUV辐射的脉冲EUV辐射源，和安装在EUV源前面用于选择性通过来自所述EUV源的EUV辐射束的光谱范围的光谱过滤器。该光谱过滤器被安装在与脉冲EUV源同步移动的可移动支架上，以阻止从EUV源传播的碎屑冲击光谱过滤器。因此，光谱过滤器被保持基本上免于碎屑造成的污染。 | ||
| 申请公布号 | CN1975581A | 申请公布日期 | 2007.06.06 |
| 申请号 | CN200610163061.5 | 申请日期 | 2006.12.01 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | M·M·J·W·范赫彭;D·J·W·克伦德;J·H·J·莫尔斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王小衡;王忠忠 |
| 主权项 | 1.一种用于产生辐射束的辐射系统，包括：用于产生EUV辐射的脉冲EUV源；和安装在EUV源前面用于选择性通过来自所述EUV源的EUV辐射束的光谱范围的光谱过滤器；所述光谱过滤器被安装在被配置成与脉冲EUV源同步移动的可移动支架上。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||