发明名称 |
提高浸没光刻中表面张力和接触角的系统和方法 |
摘要 |
一种可以将有机流体用在浸没光刻系统中的系统和方法。这是通过提供部分涂有或由特氟隆类材料构成的液体供给系统的喷头部分来实现的。特氟隆类材料减少了润湿效应,并由此增大了当在末级光学部件和衬底之间的空间中使用有机浸没流体时的存贮。 |
申请公布号 |
CN1975580A |
申请公布日期 |
2007.06.06 |
申请号 |
CN200610160480.3 |
申请日期 |
2006.11.28 |
申请人 |
ASML控股有限公司 |
发明人 |
H·塞维尔 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王小衡;王忠忠 |
主权项 |
1.一种光刻系统,包括:调节辐射束的照明系统;构图该束的构图装置;将构图束投射到衬底的目标部分上的投影系统;以及液体供给系统,其用具有大于水或约1.10的折射率的浸没液体至少部分填充该投影系统和该衬底之间的空间,其中该液体供给系统的至少一部分表面至少涂有PTFE、TFE、特氟隆或特氟隆类氟化烃聚合物。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |