发明名称 检测接触的设备和方法及读写头制造方法
摘要 本发明提供了检测接触的设备和方法及读写头制造方法。在用于检测读写头与记录介质的接触的接触检测设备中,信号写入单元将包括至少一个预定频率分量的信号写到记录介质上;并且接触检测单元通过在改变读写头与记录介质之间的间隔的同时读取写在记录介质上的所述信号,根据所述预定频率分量的幅值来检测读写头与记录介质的接触。
申请公布号 CN1975916A 申请公布日期 2007.06.06
申请号 CN200610132260.X 申请日期 2006.10.13
申请人 富士通株式会社 发明人 横畑徹;岩濑健;上野隆久;井垣诚吾;今村孝浩;藤卷徹
分类号 G11B21/00(2006.01);G11B21/21(2006.01);G11B5/02(2006.01);G11B5/455(2006.01);G11B5/60(2006.01) 主分类号 G11B21/00(2006.01)
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 李辉;吕俊刚
主权项 1、一种接触检测设备,该接触检测设备检测读写头与记录介质的接触,该接触检测设备包括:信号写入单元,该信号写入单元将包括至少一个预定频率分量的信号写到所述记录介质上;以及接触检测单元,该接触检测单元通过在改变所述读写头与所述记录介质之间的间隔的同时读取写在所述记录介质上的所述信号,根据所述预定频率分量的幅值来检测所述读写头与所述记录介质的接触,并生成检测结果。
地址 日本神奈川县川崎市