发明名称 Lithographische Maske, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
摘要 A reflective mask has a sub-resolution texture applied to absorbing areas to reduce the amount of power in the specular reflection. The texture may form a phase contrast grating or may be a diffuser. The same technique may be applied to the other absorbers in a lithographic apparatus.
申请公布号 DE60309238(T2) 申请公布日期 2007.06.06
申请号 DE2003609238T 申请日期 2003.03.06
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS;VAN DIJSSELDONK, ANTONIUS JOHANNES JOSEPHUS;DIERICHS, MARCEL MATHIJS THEODORE MARIE
分类号 G03F1/00;G03F1/24;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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