发明名称 METHOD FOR OBTAINING A THIN LAYER BY IMPLEMENTING CO-IMPLANTATION AND SUBSEQUENT IMPLANTATION
摘要
申请公布号 EP1792339(A1) 申请公布日期 2007.06.06
申请号 EP20040787559 申请日期 2004.09.21
申请人 S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES 发明人 AKATSU, TAKESHI
分类号 H01L21/762 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
地址