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Eine Methode zur Erzeugung von Abbildungen nach einem Positivresistverfahren besteht darin, dass man (1) eine Photoresistzusammensetzung, die aus (1) einem filmbildenden organischen Material mit mindestens einer substituierten Benzoingruppe der Formel <IMAGE> worin R¹ für ein Wasserstoffatom, eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Aralkylgruppe oder eine Gruppe -(CH2)bX, R² für ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Aryl- oder Aralkylgruppe, R³ für ein Halogenatom oder eine Alkyl-, Alkoxy-, Cycloalkyl-, Cycloalkylalkyl- oder Phenylgruppe, X für ein Halogenatom eine Alkoxygruppe, eine Phenoxygruppe, eine Gruppe -COOR<4> oder eine Gruppe -OOCR<4> stehen, wobei R<4> eine Alkylgruppe bedeutet, sowie a null oder 1, b eine ganze Zahl von 1 bis 4, m und n je null oder 1, wobei die Summe von m + n = 1 ist, p und q je null oder 1 sind, wobei die Summe von p + q = 1 ist, und c und d je null oder eine ganze Zahl von 1 bis 3 sind, und (b) einer Verbindung, die unter der Einwirkung eines Radikalkatalysators zu höhermolekularem Material polymerisierbar ist, das in einem Entwickler löslicher ist als die Zusammensetzung vor der Belichtung, sodass die Löslichkeit der Zusammensetzung im Entwickler in dem belichteten Teil zunimmt, besteht, mit aktinischer Strahlung bildweise belichtet und (2) die Zusammensetzung mit einem Entwickler behandelt, um den belichteten Teil zu entfernen.
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