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发明名称
DEVICE FOR OPPRESSING GENERATION OF WAFER SECONDARY ELECTRON OF ION IMPLANTATION SYSTEM
摘要
申请公布号
KR100725094(B1)
申请公布日期
2007.06.04
申请号
KR20010020794
申请日期
2001.04.18
申请人
发明人
分类号
H01L21/265
主分类号
H01L21/265
代理机构
代理人
主权项
地址
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