发明名称 制备薄氮化锆涂层之方法
摘要 叙述一种产生氮化锆涂层的制程,是藉着反应性气体在基材表面的CVD(化学蒸气沉积)方法;ZrN涂层及其用途。在该制程中,肆(二烷基醯胺)锆具有通式为:Zr(NR1R2)4其中使用R1及R2代表相同或不同之直链或有分支的C1至C4烷基基团为Zr的前趋物,并且联氨具有通式:H2N-NR3R4其中使用R3代表直链或有分支的C1至C4烷基基团、及R4独立代表C1至C4烷基基团或H作为反应性气体。
申请公布号 TW200720469 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095126127 申请日期 2006.07.18
申请人 史达克有限公司 发明人 陆可侬;潘爵德;金洋素;潘哈许;弗罗兰
分类号 C23C16/34(2006.01) 主分类号 C23C16/34(2006.01)
代理机构 代理人 蔡中曾;黄庆源
主权项
地址 德国