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发明名称
雷射引发热成像法与以该法制造有机发光二极体之方法
摘要
本发明关于一种雷射引发热成像法,可以有效地使用磁力将供膜以及受体基板层叠;以及以该法制造有机发光二极体的方法。雷射引发热成像法包括将受体基板配置在制程腔体中的基板平台上,在受体基板的一个表面中形成第一磁铁;在受体基板上面配置供膜,在其中包含第二磁铁;使用在第一以及第二磁铁之间作用的磁力将供膜以及受体基板层叠;透过在供膜上的雷射扫描,将成像层的至少一个区域转印到受体基板上。雷射引发热成像法改善供膜以及受体基板之间的黏合,并且增加有机发光二极体的寿命、产量以及可靠性。
申请公布号
TW200721567
申请公布日期
2007.06.01
申请号
TW095140398
申请日期
2006.11.01
申请人
三星SDI股份有限公司
发明人
鲁硕原;杨南;李在濠;宋明原;郭鲁敏
分类号
H01L51/56(2006.01)
主分类号
H01L51/56(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
韩国
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