发明名称 雷射引发热成像法与以该法制造有机发光二极体之方法
摘要 本发明关于一种雷射引发热成像法,可以有效地使用磁力将供膜以及受体基板层叠;以及以该法制造有机发光二极体的方法。雷射引发热成像法包括将受体基板配置在制程腔体中的基板平台上,在受体基板的一个表面中形成第一磁铁;在受体基板上面配置供膜,在其中包含第二磁铁;使用在第一以及第二磁铁之间作用的磁力将供膜以及受体基板层叠;透过在供膜上的雷射扫描,将成像层的至少一个区域转印到受体基板上。雷射引发热成像法改善供膜以及受体基板之间的黏合,并且增加有机发光二极体的寿命、产量以及可靠性。
申请公布号 TW200721567 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095140398 申请日期 2006.11.01
申请人 三星SDI股份有限公司 发明人 鲁硕原;杨南;李在濠;宋明原;郭鲁敏
分类号 H01L51/56(2006.01) 主分类号 H01L51/56(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 韩国