发明名称 | 电容结构 | ||
摘要 | 一种电容结构,包括第一电容器以及第二电容器。第一电容器包括第一电极、第二电极与第一绝缘层,其中第二电极配置于第一电极下方,且第一绝缘层配置于第一电极与第二电极之间。第二电容器配置于第一电容器下方,且与第一电容器并联。第二电容器包括构成第三、第四电极的多数个图案化金属层与多个介层窗插塞,以及第二绝缘层。各图案化金属层堆叠配置于第二绝缘层中,且介层窗插塞连接这些图案化金属层,其中每一图案化金属层包括第三电极的一部分与第四电极的一部分。 | ||
申请公布号 | TW200721212 | 申请公布日期 | 2007.06.01 |
申请号 | TW094140408 | 申请日期 | 2005.11.17 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 许村来;严国辉;陈威良 |
分类号 | H01G4/30(2006.01) | 主分类号 | H01G4/30(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |