| 主权项 |
1.一种雷射雕刻装置之改良,该装置主体系包括: 一雷射产生单元,系可产生雷射光束,并朝一预定 方向连续发射; 一工作平台,设置在该雷射产生单元之操作范围内 ,提供一工作面,该工作面上具有至少一成镂空型 态之操作区用以置放工作物,该雷射产生单元可产 生光束,朝操作区之工作物进行雕刻作业者。 2.依申请专利范围第1项所述雷射雕刻装置之改良, 该操作区上方设有一压制件,其系配合该操作区形 成可压制工作物在工作面上之型态者。 3.依申请专利范围第2项所述雷射雕刻装置之改良, 该压制件系具有一对应操作区轮廓之开放区域者 。 4.依申请专利范围第1或2或3项所述雷射雕刻装置 之改良,该操作区系具有一矩形轮廓者。 5.依申请专利范围第1或2或3项所述雷射雕刻装置 之改良,该装置主体系具有一设置在工作平台周边 区域之排烟单元者。 6.依申请专利范围第4项所述雷射雕刻装置之改良, 该装置主体系具有一设置在工作平台周边区域之 排烟单元者。 图式简单说明: 第1图:系习知雷射雕刻装置之立体示意图。 第2图:系本创作较佳实施例之立体示意图。 第3图:系本创作实施例之操作状态示意图。 第4图:系本创作第3图之局部放大示意图。 第5图:系本创作第4图之剖面示意图。 |
