发明名称 光阻剂稀释系统
摘要 [课题]本发明,系提供一种具备流动有高黏度光阻剂等之易于乾燥的液体之配管的光阻剂稀释系统。[解决手段]光阻剂稀释系统1,系具备有:配管3,其系具有高黏度光阻剂用配管3a,稀释溶剂用配管3b,及1个流出部3e;和调制槽2,其系将藉由高黏度光阻剂用配管3a而流入且藉由流出部3e而流出之高黏度光阻剂,与藉由稀释溶剂用配管3b而流入且藉由流出部3e而流出之稀释溶剂混合。藉由使用该光阻剂稀释系统1,在使用时,稀释溶剂能恒常地将残留于配管之表面的高黏度光阻剂洗净。
申请公布号 TW200719980 申请公布日期 2007.06.01
申请号 TW095140798 申请日期 2006.11.03
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 森尾公隆;长谷川透;室伏荣治
分类号 B05C5/02(2006.01);B05B7/26(2006.01) 主分类号 B05C5/02(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本